ACM 리서치, Ultra C pr 장비에 금속 박리 공정 추가 |
|
2022-11-18 10:50
편집부 press@bodnara.co.kr |
|
|
|
|
|
|
반도체 및 첨단 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 애플리케이션을 위한 웨이퍼 처리 솔루션 전문 기업인 ACM 리서치(ACM Research, Inc.)는 전력 반도체 제조 및 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 애플리케이션을 지원하기 위해 금속 박리(metal lift-off, MLO) 기능을 포함하도록 Ultra C pr 포토레지스트 장비 제품군을 확장했다고 밝혔다.
MLO기능은 에칭 공정 단계를 줄이도록 사용이 가능하여, 비용을 절감하고 사이클 시간을 최적화하며 고온에서 화학 물질 수요를 크게 줄일 수 있다. 이와 함께 ACM은 MLO 기능을 지원하는 첫번째 Ultra C pr 장비가 중국의 전력 반도체 제조회사로부터 품질 검증을 마치고 양산 라인에 적용됐다고 발표했다.
ACM의 Ultra C pr 장비는 탱크형 고무 제거 침지 모듈 및 단일 칩 세정 챔버와 직렬로 사용되며 금속 제거 공정은 고무 제거와 동시에 수행된다. 이 장비는 서로 다른 단일 칩 세정 챔버를 고무 제거 기능과 세정 기능으로 구성하고 챔버의 구조를 최적화하여 분해, 세정 및 유지 관리가 용이할 뿐 아니라 금속 스트립 공정에서 잔류물 축적 문제도 해결한다. 이 공정은 ACM의 SAPS 메가소닉 세정 기술로 구성하여 웨이퍼 세정 성능을 더욱 개선할 수 있다. |
|
|
|
|
|
|
보드나라 많이 본 뉴스
씨게이트 중고 HDD를 신품으로 둔갑 시킨 일당 검거
인텔 바틀렛 레이크 12 P-코어는 A0 스테핑? 소비자용은 아직 무소식
|
보드나라 많이 본 기사
인텔 CPU의 새로운 합리적 선택, 인텔 밸류팩이란?
메인스트림 게이밍 CPU 종결템, 라이젠 7 9800X3D 성능은?
드디어 E코어 빼고 나오는 인텔 바틀렛레이크, 하반기 PC 시장 흔들 돌풍의 핵 되나?
|
|
|
|
|
|
| 로그인 | 이 페이지의 PC버전 |
|
| Copyright NexGen Research Corp. 2010 |
|
|
