인텔 10nm 수율 개선 1년 이상 예상, 재디자인 필요? |
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2018-06-26 11:55
이상호 기자 ghostlee@bodnara.co.kr |
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인텔의 10nm 공정 양산이 계속 늦어지고 있는 가운데, 새로운 디자인이 필요하다는 주장이 제기되었다
인텔과 JPMorgan의 인터뷰에 따르면 최소 2020년까지 서버용 제온 프로세서는 10nm 전환 계획이 없으며, 앞으로 1년 이상 10nm 공정의 비용과 수율을 개선할 예정이라는 내용을 전했다. 이에 따라 빠르면 2019년 하반기, 늦으면 2020년까지도 인텔의 신규 제품은 14nm 공정을 사용할 것으로 예상된다.
이와 관련해 인텔이 14nm에서 10nm 전환시 트랜지스터 밀도가 2.7배 늘어날 것으로 알려졌으며, 이에 따라 배선 간격이 100nm에서 그 절반 이하인 36nm로 줄어들 것으로 예상되는데, 이 때문에 배선층에 쓰인 구리의 이온화에 의한 오염 방지를 위한 공간 확보 한계를 극복하기 위해 코발트를 도입했으나, 배선 전체의 저항 증가로 클럭 한계가 낮아지는 부작용이 발생한 것으로 분석되고 있다.
때문에 이를 해결하기 위해 현재의 10nm 공정 디자인의 '개선'이 아닌 '새로운 디자인'이 필요하다는 주장이 나오고 있는데, 당초 2017년 양산 예정이었던 10nm 제품의 출시가 늦으면 2020년까지 3년이나 연기된 상황에서 글로벌파운드리와 TSMC등 경쟁 파운드리 업체들이 앞서가는 형국에 어떤 식으로 대응할지 주목된다. |
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