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45nm 공정위한 high-K 절연막 관련 특허 급증

2007-04-09 11:45
장홍식 대표기자 potatotree님의 미디어로그 가기 potatotree@bodnara.co.kr

특허청(청장 전상우)은 차세대 나노 공정 구현을 위한 핵심 기술로 평가되는 하이케이(high-K) 게이트 절연막 및 금속 게이트를 포함한 트랜지스터의 출원이 꾸준한 증가 추세에 있다고 밝혔다.

반도체 집적도 향상의 관건인 미세회로 구현을 위해서는 게이트 절연막이 얇아지더라도 누설 전류를 최소화시켜야 하는데, 하이케이 절연막은 누설 전류를 극적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 하이케이의 주성분이 금속이므로 절연막과 인접한 게이트를 금속 재료로 대체하면 그 효과가 배가된다.

하이케이 게이트 절연막 및 금속 게이트를 포함한 반도체 트랜지스터와 관련하여 국내에 출원된 특허는 1999년 이전에는 5건에 불과하였으나, 2000년 14건, 2001년 23건, 2002년 18건, 2003년 26건, 2004년 43건, 2005년 45건으로 매년 꾸준히 증가하고 있다. 특히 2004년에 들어서 반도체 메모리 소자에 하이케이 게이트 절연막 및 금속 게이트를 적용한 출원이 급증하였다(붙임 1 참조). 이 기간에 출원국가별로는 한국 145건(83%), 미국 6건(3%), 일본 22건(13%), 독일 1건 순이며(붙임 2 참조), 출원인별로는 세계 반도체 메모리 기술을 주도하는 삼성전자와 하이닉스의 출원이 대부분을 차지한 것으로 나타났다.



올해 초 인텔(Intel)이 하이케이 게이트 절연막 및 금속 게이트를 적용해 45나노 공정으로 구현한 차세대 CPU 펜린(Penryn)에 대해서, ‘무어의 법칙’으로 유명한 고든 무어 인텔 공동 창업자가 ‘반도체 40년 역사상 가장 획기적인 신기술’로 선언한 대목을 눈여겨볼 필요가 있다.

인텔 이외에도 삼성전자·하이닉스·IBM·AMD 등 국내외 유수기업들이 앞다투어 준비하고 있는 차세대 반도체 공정의 대부분이 하이케이 게이트 절연막 및 금속 게이트 기술을 기반으로 한다는 점에서, 향후 이 기술 분야를 선점하기 위한 출원 경쟁은 점차 가열될 것으로 전망된다.

특허청(반도체심사팀장 양희용)은 “반도체 신기술 분야에 대한 내국 출원 비율이 높다는 것은 우리 기업의 높은 위상을 여실히 보여주는 것”이라며, “앞으로도 해마다 반도체 집적도가 2배로 증가한다는 황의 법칙을 뒷받침하기 위한 혁신적인 기술이 계속 등장할 것”이라고 말했다.

이 기사의 의견 보기
eye2eyes (ID) / 07-04-09 12:40/ 신고
"하이케이 절연막은 누설 전류를 극적으로 감소시킬 수 있다" 여기서 극적으로 감소시킨다는건 어떻게 감소시킨다는건지..잘 모르겠네요.

아무튼 이런분야에 국내특허출원이 많은만큼 반도체분야 기술수준을 짐작케하네요 ^^
muchunrang (ID) / 07-04-09 12:48/ 신고
누설전류가 줄어든다는 건 발열과 전력소모가 줄어든다는 이야기겠죠? -_-) 맞나?
muphy22 (ID) muphy22님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 13:19/ 신고
누설 전류가 줄면 전력소모가 줄고 발열도 줄죠...
pg1313 (ID) pg1313님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 13:42/ 신고
여러가지로 메리트가 있죠..
jin2006 (ID) / 07-04-09 15:12/ 신고
발열과 전력문제는 더욱더 개선되었으면 하네요
ceoh (ID) / 07-04-09 15:22/ 신고
한국이 압도적이군요^^
bluemun (ID) bluemun님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 15:49/ 신고
하이케이 전연박 기술이군요.
iamafool (ID) iamafool님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 18:48/ 신고
나노테크널리지도 우리나라가 선전하는군요. 화이팅
rockcd (ID) rockcd님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 19:09/ 신고
선전하길 바랍니다. ㅎㅎ
romance6 (ID) / 07-04-09 20:33/ 신고
역시 우리나라의 특허권이 제일 많군요..
medkwon (ID) / 07-04-09 20:56/ 신고
45나노면 더욱더 저발열을 추구할수 있겠는데요.
godanhan (ID) / 07-04-09 23:21/ 신고
국내특허건수가 많다는것이 고무적인 사실이네요.
jcft13 (ID) jcft13님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 23:45/ 신고
국내 특허건수가 많다는점 자랑스럽네요
cheermom (ID) / 07-04-09 23:49/ 신고
우리나라 기업들의 계속적인 분발을 바랍니다.
scoot (ID) scoot님의 미디어로그 가기  / 07-04-09 23:52/ 신고
특허 전쟁이군요..
l3rainl3ox (ID) / 07-04-10 7:53/ 신고
우리나라 기업들이 아주 잘해요^^
jeehy (ID) jeehy님의 미디어로그 가기  / 07-04-10 9:07/ 신고
반도체관련해는 세계 선두 기업들이니
기술개발도 앞서가는군요
kartor (ID) / 07-04-10 9:12/ 신고
좋군요...실용화 되면 여러면에서 좋을듯...
skarhkdg (ID) / 07-04-10 19:49/ 신고
특허 많이따서 앞서나가기 바랍니다.
zooty129 (ID) zooty129님의 미디어로그 가기  / 07-04-11 2:18/ 신고
얼마나 뛰어날지는 ...
zooty129 (ID) zooty129님의 미디어로그 가기  / 07-04-11 2:19/ 신고
화이팅 코리아/~
guru (ID) / 07-04-11 2:20/ 신고
더더욱 45nm 제품이 기대되는군요.ㅎ
athlon88 (ID) / 07-04-11 7:22/ 신고
하이케이 말고도 다른 방법이 최근에 실험 성공한 것으로 어디선가 본 적이 있는데 그 기술이 범용화되면 하이케이도 밀려날지도 모릅니다.

일단 탄소 튜브인가 그 방법도 고집적에 누설 전류를 잡았다고 하더군요.

아뭏든 미래는 모를 일 -_-;
pmicro (ID) pmicro님의 미디어로그 가기  / 07-04-14 2:46/ 신고
극적이란 말은 상당히 줄여든다는 표현 같네요.^^

우리나라 참 대단한 나라네요.-0-
yuhwa (ID) yuhwa님의 미디어로그 가기  / 07-04-14 7:59/ 신고
인텔을 따라가야 하는데
sky0734 (ID) sky0734님의 미디어로그 가기  / 07-04-14 9:33/ 신고
반도체 비세화 될 수 록 필요한 기술이네요.
ljhhjw (ID) ljhhjw님의 미디어로그 가기  / 07-04-14 12:50/ 신고
미세공정..대단하군요
jenjinman (ID) jenjinman님의 미디어로그 가기  / 07-04-14 13:21/ 신고
우리나라 기술의 특허권이 더욱 많아지는 모습이 좋네요.
wineagle (ID) / 07-04-15 6:30/ 신고
기대되는 기술이네요.
blasty (ID) blasty님의 미디어로그 가기  / 07-04-15 10:41/ 신고
선점하는자가 우선이니까요
jlee95 (ID) jlee95님의 미디어로그 가기  / 07-04-15 18:57/ 신고
이런 기술이 유행.
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