Elpida, UMC와 Low-K DRAM과 PRAM 개발을 위해 협력한다. |
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2007-10-23 11:08
권경욱 前 기자 
press@bodnara.co.kr |
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일본 Elpida 메모리는 UMC (United Microelectronics Corporation)과 구리 Low-K 기술을 통해 DRAM과 PRAM (PCM, Phase-Change Random Access Memory) 개발을 위해 서로 협력한다는 소식이 digitimes에 올라왔다.
이번 협력은 UMC는 구리 Low-k 기술을 Elpida에게 제공하며, Elpida는 DRAM 부분의 기술을 UMC의 향상된 SoC (System-on-chip) 솔루션들에 적용할 권리를 갖게 된다.
또한, 협력 기간 동안 Elpida와 UMC는 PRAM 기술 개발도 서로 협력하게 된다. Elpida는 GeSbTe (GST) 물질 전문기술을 UMC는 CMOS 로직 기술의 장점들을 활용한다.
Elpida는 구리 Low-k 기술은 제품 생산을 돕고 계속되는 공정 변환에 의해 고성능의 DRAM을 얻을 수 있게 되며, PRAM의 상업화 역시 가속하게 될 것이라고 밝혔다. |
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