»ï¼ºÀüÀÚ°¡ 8ÀÎÄ¡(200mm) ¿þÀÌÆÛ¸¦ Ȱ¿ëÇÑ ÆÄ¿îµå¸® ¼Ö·ç¼ÇÀ» È®´ëÇØ °í°´ Áö¿ø °È¿¡ ³ª¼±´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ´Â 21ÀÏ º¸µµÀڷḦ ÅëÇØ 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® ¼ºñ½º Á¦Ç°±ºÀ» ±âÁ¸ 4Á¾¿¡¼ 6Á¾À¸·Î È®´ëÇϰí 180³ª³ëºÎÅÍ 65³ª³ë±îÁö °¢ Á¦Ç°¿¡ Æ¯ÈµÈ ¹Ì¼¼°øÁ¤ ¼Ö·ç¼ÇÀ» Á¦°øÇØ °í°´ÀÇ Á¦Ç° ¿Ï¼ºµµ¿Í ÆíÀǼºÀ» Çâ»ó½Ãų °èȹÀ̶ó°í ¹àÇû´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® ¼ºñ½º Á¦Ç°±ºÀº ¡ãÀÓº£µðµå Ç÷¡½Ã ¸Þ¸ð¸®(eFlash), ¡ãÀü·Â ¹ÝµµÃ¼(PMIC), ¡ãµð½ºÇ÷¹ÀÌ µå¶óÀ̹ö IC(DDI), ¡ãCMOS À̹ÌÁö ¼¾¼(CIS) µî 4°¡Áö ¼Ö·ç¼ÇÀ̾ú´Âµ¥, À̹ø¿¡ ¡ãRF/IoT ¿Í ¡ãÁö¹®ÀÎ½Ä ¼¾¼¸¦ Ãß°¡ÇÔÀ¸·Î½á ÃÑ 6°³ÀÇ Æ¯ÈµÈ 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® ¼Ö·ç¼ÇÀ» Á¦°øÇÏ°Ô µÇ¾ú´Ù.
Á¦Ç°º° Á¦Á¶ °øÁ¤Àº ÀÓº£µðµå Ç÷¡½Ã ¸Þ¸ð¸®°¡ 130nm¿Í 65nm, Àü·Â ¹ÝµµÃ¼´Â 130nm¿Í 90nm, µð½ºÇ÷¹ÀÌ µå¶óÀ̹ö IC´Â 180/130/90/70nm, CMOS À̹ÌÁö ¼¾¼´Â 90nm, ±×¸®°í »õ·Î Ãß°¡µÈ RF/IoT¿Í Áö¹®ÀÎ½Ä ¼¾¼´Â °¢°¢ 90nm¿Í 180nm °øÁ¤ ±â¼úÀ» »ç¿ëÇØ ¸¸µé¾îÁø´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ ÆÄ¿îµå¸® »ç¾÷ºÎ ¸¶ÄÉÆÃÆÀÀå ÀÌ»óÇö »ó¹«´Â "8ÀÎÄ¡ ¼Ö·ç¼ÇÀ» È®´ëÇØ ´õ ¸¹Àº °í°´µé¿¡°Ô »ï¼ºÀüÀÚÀÇ Â÷º°ÈµÈ ¼Ö·ç¼ÇÀ» Ȱ¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô Çß´Ù"¸ç, "³ôÀº ¿Ï¼ºµµÀÇ °øÁ¤±â¼ú°ú ´Ù¾çÇÑ ¿ä±¸¸¦ ¸¸Á·½Ãų ¼ö ÀÖ´Â MPW (Multi Project Wafer) ÇÁ·Î±×·¥, IP(¼³°èÀÚ»ê) Á¦°ø µîÀ» ÅëÇØ °í°´ Áß½ÉÀÇ ¼ºñ½º¸¦ °È ½ÃÄѳª°¡°Ú´Ù"°í ¹àÇû´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ´Â ÇöÀç ±âÈï Ä·ÆÛ½º 6¶óÀο¡ 8ÀÎÄ¡ ¶óÀÎÀ» ¿î¿µÇϰí ÀÖÀ¸¸ç, ´Ù³â°£ ÃàÀûµÈ »ý»ê ³ëÇÏ¿ì¿Í ÀÚµ¿È ½Ã½ºÅÛÀ» ÅëÇØ ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°±ºÀÇ ÆÄ¿îµå¸® ¼ºñ½º¸¦ Á¦°øÇϰí ÀÖ´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ ÆÄ¿îµå¸® »ç¾÷ºÎ´Â 2017³â 5¿ù »ç¾÷ºÎ Ãâ¹ü ÀÌÈÄ ¹Ì±¹, À¯·´, ÀϺ» µîÁö¿¡¼ ÆÄ¿îµå¸® Æ÷·³À» ¿°í, ±Û·Î¹ú °í°´µéÀ» ´ë»óÀ¸·Î ÃÖ÷´Ü ¹Ì¼¼°øÁ¤ ·Îµå¸Ê°ú 8ÀÎÄ¡ ÆÄ¿îµå¸® »ç¾÷À» ¼Ò°³ÇØ¿À°í ÀÖ´Ù. ÇöÀç ±âÈï Ä·ÆÛ½º 6¶óÀο¡ 8ÀÎÄ¡ ¶óÀÎÀ» ¿î¿µ ÁßÀÌ´Ù. |