±Û·Î¹ú ÆÄ¿îµå¸® (Globalfoundries)ÀÇ ¼¼ÀÏÁî ¸¶ÄÏÆÃ ´ëÇ¥ÀÎ Mike NoonenÀº ÆÄ¿îµå¸® ºí·Î±×¸¦ ÅëÇØ ÀÚ»çÀÇ Áøº¸µÈ 28nm °øÁ¤ÀÌ °æÀï ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç¿Í ºñ±³ÇØ ½ÇÇà ´É·Â°ú Çõ½Å, ±×¸®°í À§Ä¡ÀÇ ¼¼°¡Áö ÁÖ¿äÇÑ ÀÌÁ¡À» °®Ãß¾ú´Ù°í ¹àÇû´Ù.
½ÇÇà ´É·Â¿¡ ´ëÇØ ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â °æÀïÀÚÀÎ TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.)¿Í UMC (United Microelectronics Corp.) µîÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶»ç¿Í ºñ±³ÇØ ºñ±³ÇØ 28nm °øÁ¤ÀÇ ÀåÁ¡À» °®°í ÀÖÀ¸¸ç, 45/ 40nm °øÁ¤ ±â¹Ý¿¡¼ °°Àº ½Ã°£ µ¿¾È °¡Àå ºü¸£°Ô »ý»ê °¡´ÉÇß°í 32/ 28nm ¿¡¼µµ ´Ù¸¥ ÆÄ¿îµå¸® ¾÷üº¸´Ù ¸¹Àº ¼ö·®À» »ý»êÇÒ °ÍÀ̶ó°í ¾ð±ÞÇß´Ù.
AMD·ÎºÎÅÍ ºÐ»çÇÑ ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â ÀüÅëÀûÀ¸·Î °øÁ¤ ÀÌÀü°ú ¾ç»ê¿¡ ÀåÁ¡À» °®°í ÀÖÀ¸¸ç, 2011³â 4¿ù¿¡¼ 2012³â 3¿ù ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â 32nm HKMG (High-K Metal Gate) °øÁ¤ ±â¹ÝÀÇ 300mm ¿þÀÌÆÛ¸¦ 25¸¸Àå ÃâÇÏÇß´Ù°í ¹àÇû´Ù.
±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®ÀÇ 32nm HKMG´Â 28nm HKMG °øÁ¤ ±â¼ú°ú ¸ÅÀ¯ À¯»çÇϰí ÀÌ¿¡ µû¶ó ºü¸¥ ±â¼ú Àû¿ë°ú ¾ç»êÀÌ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ̶ó°í ¾ð±ÞÇßÀ¸¸ç, ÀÌ´Â TSMCÀÇ 28nm HKMG °øÁ¤ ¹®Á¦¿Í UMCÀÇ 28nm Poly/SiON °øÁ¤ Àû¿ë°ú ºñ±³µÈ´Ù. ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â HKMG ¿þÀÌÆÛ¸¦ ´Ù¸¥ °æÀï ÆÄ¿îµå¸® ¾÷üº¸´Ù ´õ ¸¹ÀÌ ÃâÇÏÇÒ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ̶ó°í ÀüÇß´Ù.
¶ÇÇÑ ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â Çõ½Å ºÎºÐ¿¡¼ °æÀï»çÀÇ gate-forst HKMG °øÁ¤º¸´Ù gate-last HKMG °øÁ¤ ±â¼ú µµÀÔÀ¸·Î °°Àº ³»Àå¿¡µµ ÃÖ´ë 20% ÀÛÀº ĨÀ» »ý»êÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ÀÛÀº »çÀÌÁî´Â µðÀÚÀο¡ ´Þ·ÁÀÖÀ¸³ª ÀϹÝÀûÀ¸·Î ÀúÀü·Â ¶Ç´Â ³ôÀº ¼º´É ±¸ÇöÀÌ °¡´ÉÇØÁö´Â °ÍÀ» ÀǹÌÇÑ´Ù. ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®ÀÇ 28nm °øÁ¤ ±â¼úÀº 40nm ·¹À̾ƿô ½ºÅ¸ÀÏÀÇ ÀåÁ¡À» Æ÷ÇÔÇÑ´Ù.
±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â 28nm °øÁ¤ ´Ê¾îÁö°í ÀÖÀ¸³ª TSMC¿Í ´Ù¸¥ ¹öÀüÀÇ 28nm °øÁ¤ ±â¼úµµ Á¦°øÇÒ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù. TSMC´Â ÇöÀç 28nm HKMG HPP¸¸ Áö¿øÇϴµ¥ ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â 28nm LPH»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó Â÷ÈÄ 28n SLP ¿ª½Ã »ý»ê °¡´ÉÇØ °í°´µéÀÌ º¸´Ù ÇÊ¿ä·Î ÇÏ´Â ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç° »ý»êÀÌ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ̶ó°í ÀüÇß´Ù.
±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â ¶Ç Áö¿ª ¶Ç´Â À§Ä¡¿¡ ´ëÇØ °í°´ÀÇ ¿ä±¸¿¡ ¸ÂÃß¾î À¯·´°ú ¾Æ½Ã¾Æ, ºÏ¹Ì¿¡ Á¦Á¶ °øÀåÀ» º¸À¯Çϰí ÀÖ´Ù°í ¹àÇû´Ù. 2013³â ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â 28nm¿Í 32nm Ĩ ¸ðµÎ¸¦ µ¶ÀÏ µå·¹½ºµ§ (Dresden) Fab1°ú ¹Ì±¹ ´º¿å¿¡ À§Ä¡ÇÑ Fab 8¿¡¼ »ý»êÇÒ °èȹÀÌ´Ù. Fab 8Àº 2013³â ÃÊ Á¦Ç° ÃâÇϰ¡ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµÇ¸ç, ¸Å´Þ 6¸¸ ÀåÀÇ ¿þÀÌÆÛ »ý»êÀÌ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.
±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®´Â ù 28nm Å×ÀԾƿôÀ» 2011³â 4ºÐ±â ÁøÇàÇÑ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù. »ý»êÀº ¾ÆÁ÷ ½ÃÀÛµÇÁö ¾Ê¾ÒÀ¸³ª ´Ù¸¥ ¹öÀü °ü·Ã °è¾à 12°ÇÀ» ÁøÇà ÁßÀ̸ç, Á¶¸¸°£ ÃâÇÏ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óÇß´Ù.
ÇöÀç 28nm °øÁ¤ GPU ¹× ¿©Å¸ ¾÷üÀÇ ·ÎÁ÷ ĨÀÇ »ý»êÀ» TSMC°¡ ÁÖµµ Çϰí ÀÖ´Â °¡¿îµ¥ »ý»ê ¹®Á¦·Î »ï¼ºÀüÀÚ³ª UMC µî°ú °°Àº ´Ù¸¥ ÆÄ¿îµå¸® ¾÷ü·ÎÀÇ ÀüȯÀÌ ÀÌ·ç¾îÁö°í ÀÖ´Ù. ¶§¹®¿¡ ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®ÀÇ °èȹÀÌ Á¦´ë·Î ÀÌ·ç¾îÁö¸é TSMC ÁÖµµ·Î ÀÌ·ç¾îÁø Áö±Ý±îÁöÀÇ 28nm °øÁ¤ °ø±Þ »óȲÀÌ ÀÌÀüº¸´Ù °³¼±µÉ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµÈ´Ù. ¹°·Ð ÀÌ´Â ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®°¡ ¾ó¸¶³ª ºü¸£°Ô 28nm °øÁ¤ ±â¹Ý Á¦Ç° »ý»ê ¹× ÃâÇϰ¡ °¡´ÉÇÏ´À³Ä¿¡ ´Þ·ÁÀÖ´Ù.
|